第一次看到光刻机,竟然这样?!

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Published 2022-11-27
第一次线下看到光刻机的“真实”样子,竟然出乎我的想象?!
6:34-8:00由于音乐版权问题做了静音处理,很抱歉给大家造成了观看上的不便,感谢大家的理解和支持~

0:00 开头
0:28 芯片:沙子的进化之旅
3:49 光刻机的公式:瑞利公式
5:24 只有光刻机,并不够
9:28 芯片的灵魂在哪
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#老石谈芯 #芯片制造 #光刻机 #ASML #台积电 #机械 #光学 #芯片 #科技

All Comments (21)
  • @saxlamen
    身為艾司摩爾員工,可以肯定的說老石是 youtube 上解說敝司最好最清楚的的,沒有之一
  • @ipeooc
    2:58 勘误,铜原子直径0.25nm,目前最先进制程5nm至晶体管鳍道最窄宽度是5nm,而镜片导线宽度是大于7nm的,不存在几个原子宽度的情况,至少是几百个原子的宽度。
  • @Scott-xx6ih
    继续追老石的高质量视频,感谢。
  • @morton566
    網路上很少有這方面詳細的報導,感恩~~~
  • @KaLeungYip
    3:55 「摩爾定律」不是「數學定律」。 應該視它為是對現象的觀測或對未來的推測,而不應視為如「物理定律」或者「自然界的規律」般。
  • @MaleGeminiCat
    頭一次看到有人這麼接近地報導光刻幾,太棒了!👍
  • @RexHu100
    感谢石哥的精彩讲解,👍
  • @kaychien1806
    說的非常詳細欸! 很多人DUV跟EUV都搞混 哈哈
  • @rickyliu4965
    如果把DUV光刻机放在EUV光刻机旁边,大小就好像一只猫放在了老虎旁边一样。
  • @jackychang4768
    是否可以增加一集光刻機如何進行蝕刻的解說,謝謝。
  • @BecomeMonke
    最后的总结好感人,老石真是照亮我前路的一束光,我也想成为别人的inspiration
  • @wenock7223
    由于芯片的制作是由多次的掩膜、光刻、清洁等多个、多次过程完成,对芯片的定位要求与光刻波长有同等级的精度要求,如果两次加工过程定位不准,整个晶圆会全部报废。40年前曾经参加过芯片键合(引脚超声焊接)和封装的设计工作,那个时候的芯片定位精度不过是在毫米级,现在是纳米级,整整提高了上千倍
  • @Cordic45
    光刻機實在不是一個好翻譯名稱 曝光 跟 蝕刻 是兩台不同的機器啊
  • @thomaslin2493
    只有曝光機也無法做甚麼...還需要各家高階機器才能做到 作為MHI電子束檢測機前員工報到....