光刻机最核心部件！揭秘EUV光源系统，为何这么难造？
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Published 2023-09-21
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All Comments (21)
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今天视频很有价值，用心了
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点赞 希望在讲讲他 量子隧穿 以及目前芯片技术是否接近物理极限，如何克服？以及新的技术方案
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抗污染是用氫來清除錫滴，ASML在這方面一直推出改良，每一種型號都有改良～
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記得以前看過的報導關於防止EUV反射鏡沉積錫的其中一個方法是通氫氣，最終產生氣態的氫化錫被抽出真空腔去減少錫的沉積汙染。
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所以清華大學的SSMB-EUV與長春光機所的 DPP-EUV在短期內都不可行嗎？
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大刘能讲一下盘古大模型吗？
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大刘再讲讲FEL-EUV光源呢？ASML也在研究这个光源，以前是加速器太大，最近是有突破，大幅缩小了加速器尺寸。
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请问大刘您有付费会员吗？我想加入，谢谢
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够专业
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缩微同步电子辐射是第一种吗
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大劉老師講課特級教授水平啊！🎉🎉😊
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大劉，要用馬斯克第一性原理思維來開發光刻機嘛，不能說別人踩過的坑我們不去踩一次😄
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同步輻射 只用於光刻機 的確太浪費了 但換個思路 如果同步輻射 主要用來科研 它的一部分光拿來光刻用 這就不會浪費了啊 只是 光刻機需要一直有光 不知道科研用的是否能穩定提供 如果不能 也是回到原點 浪費。
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讲讲星闪呗
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大劉這集有水準，聽課的人如果是物理工程本科的同學，應該都能聽懂。
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用量子刻晶片
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除了在这些光刻机上动脑筋之外，也有在芯片材料上动脑筋的，就是用碳基芯片替代硅基芯片，不用弄到这么小的芯片也能有很强的功效。还有纳米压印光刻技术等等都可以在这方面脑洞大开。
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❤
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量子穿隧目前解決的手段就是FinFET還有升級版的GAA啊，穿隧是一定會穿隧的，主要是要將穿隧量壓低，不要超過閘極開啟的閾值電壓就好，這話題我真的很懂，都可以問我
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其中一样技术做得出来都富得流油。😂
